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气氛升华炉(氧化亚硅气相沉积炉)

CVD气相沉积炉

产品描述

为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这处CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)可根据客户需求设计尺寸,能满足超大型工件化学气相沉积处理需求;采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理;新设计防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低。

 

技术参数

型号

炉膛尺寸(mm)

加热区长(mm

额定功率(KW)

最高温度(

加热元件

SL-CVD-40

Ф40*1200(mm)

200(mm)

2KW

1100

电阻丝

SL-CVD-60

Ф60*1500(mm)

400(mm)

3KW

1100

电阻丝

SL-CVD-80

Ф80*1500(mm)

400(mm)

3kw

1100

电阻丝

SL-CVD-60ll

Ф60*1800(mm)

300+300(mm)

6KW

1100℃

电阻丝

SL-CVD-80ll

Ф80*1800(mm)

300+300(mm)

6KW

1100

电阻丝

SL-CVD-100

Ф100*1200(mm)

300(mm)

7kw

1100

电阻丝

SL-PECVD-40

Ф40*1500(mm)

200(mm)

2KW

1100℃

电阻丝

SL-PECVD-60

Ф60*1800(mm)

400(mm)

3KW

1100

电阻丝

SL-PECVD-80

Ф80*1800(mm)

400(mm)

3KW

1100

电阻丝

SL-PECVD-60ll

Ф60*2200(mm)

300+300(mm)

6KW

1100

电阻丝

备注:真空及多路气体可选配  联系电话:18888180299   微信号:18717752868 

 

关键词:管式炉,CVD气相沉积炉 ,真空管式炉 ,立式管式炉,回转管式炉,

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